高难度半导体废水主要来源于半导体制造过程中的各个环节，包括原材料加工、晶圆制备、清洗、蚀刻、电镀、磨削等多个工序。在这些工序中，会使用到大量的化学试剂、清洗剂、有机溶剂等，同时也会产生各种废渣和废液，这些都是半导体废水的主要来源。

高难度半导体废水具有以下几个显著特点：

1. 污染物种类多、浓度高：半导体制造过程中使用的化学物质种类繁多，如酸、碱、有机溶剂、重金属等，这些物质在废水中含量往往较高，处理难度大。

2. 毒性大：废水中的重金属和有机溶剂等物质对人体和环境具有很大的毒性，处理过程中需要特别注意安全防护。

3. 浓度的波动性：由于生产过程的波动，半导体废水中的污染物浓度往往会出现大幅度波动，给处理工艺带来挑战。

4. 回收价值高：废水中的许多物质，如重金属和有机溶剂等，具有较高的回收价值，可以在处理过程中进行资源回收。

针对高难度半导体废水的处理，需要采用科学有效的工艺流程和方案，以下是一种可能的处理方案：

1. 预处理：通过过滤、沉淀等方法去除废水中的大颗粒物和悬浮物，防止堵塞管道和设备；调节废水pH值，使其达到后续处理的最佳范围；去除油类物质，防止对环境造成污染。

2. 化学处理：通过添加化学试剂，使废水中的重金属离子转化为沉淀物，再通过沉淀、过滤等方法去除；通过氧化还原反应，使某些有害物质转化为无害物质。

3. 生物处理：利用微生物的代谢作用，使废水中的有机物得到降解和转化。由于半导体废水往往生物降解性较差，可能需要先经预处理改变其生物可降解性。

4. 深度处理：采用高级氧化法，通过强氧化剂将废水中的有机物进行氧化分解，使其转化为无害物质；利用吸附法，通过活性炭、树脂等吸附剂吸附废水中的微量污染物；采用膜分离技术，将废水中的离子、分子、蛋白质等进行分离和纯化。

此外，物理化学预处理中的萃取法、絮凝沉淀法以及臭氧氧化法等，也可以针对废水中的特定污染物进行高效处理。

请注意，具体的处理方案应根据废水的具体成分、处理目标以及经济条件等因素进行定制。同时，处理过程中应严格遵守环保法规，确保废水处理的合规性和安全性。在处理完成后，还需要对处理效果进行监测和评估，以确保废水达到排放标准并最大限度地实现资源回收